新凯来会发布光刻机吗？你们认为还要多久才能突破先进制程的光刻机？

看 9030 是不是 5nm 的吧

这个真不知道，研发这类工作充满不确定性，可能十个前置技术其中九个都很顺利研发出来了，结果最后一个关键的卡壳三五年。

@yidinghe 也有道理，不过我比较乐观

国产这种东西看个乐就行，人家给你封锁的，0-1 很难的。你以为跟软件一样，有开源，然后拿过来改改就自主研发了吗。

如果 7nm 能够完全自主可控，那服务器的 GPU 、CPU 就起飞了

关我们月薪几千的屁事啊 ,https://ex.noerr.eu.org/t/1166423?p=1#reply66 这个帖子的楼主才应该是 v2er 的学习对象;在这里技术即使突破,也是这个帖子里面提到的一样,普通人的生活变得更加艰难而已 https://ex.noerr.eu.org/t/1166421?p=1#reply30

好像是 DUV ，那样还是落后的。上海微电子就能造。EUV 突破才行，光源是大问题，很难小型化。

且听龙吟😎

EUV?三年太乐观了吧，6 年还差不多

@ff521 生在中国，真是难为你了

不卡脖子十来年，卡住脖子无法突破。

DUV 突破了 现在是验证阶段.预估 26 年底量产.
EUV 嘛 哈哈 等吧

无所谓

从这次展示程度上看，没有太多的惊喜，所以维持之前的预期：30 年通过测试是比较乐观的判断了。
主要有几点和过去不同：
新凯来簇公司目前策略看起来就是大面积铺开，资金不愁，可以针对某个点并行实施多个方案。
EUV 不必囿于空运尺寸的约束，所以设计思路可以比 ASML 之类的约束条件更少一点
整体项目机密程度高，媒体接触少，外界因素影响少
国际政治带来的动力还是比较高的，统一研发思想成本比较低
当然也有缺点：新公司的治理很复杂，需要高手管理

总体来说偏乐观吧，暂时看不到有什么比较主要的掣肘因素

用 ASML 光刻机多重曝光能够搞定等效 5nm 就不错了
国产 EUV 短期没戏

@yianing 那请你自己遵纪守法，不要爬墙出来看 V 站啦

单纯从技术层面上，很难说。

但是，为什么要单看技术层面呢？欧美如果 3 年内稀土工业无法突破，很有可能就必须用技术做交换了。

本来不想说的，一看 3 年给我整笑了，你如果是做半导体的就不会这么说，而且新凯来也没吹的那么牛逼，不要问我为什么？因为我就是干半导体的

@zxc1 正因为我不是半导体的我才会问，并给一个乐观的预测。但我也不会因为有某个人说自己干半导体的，他说啥我就信。毕竟半导体行业也是云泥之别

@ff521 你月薪几千而已，而且你也不太能理解如果突破了会对你有什么好处

@june4 DUV 能量产都很不错啦